Semicera tillhandahåller specialiserade tantalkarbid (TaC) beläggningar för olika komponenter och bärare.Semiceras ledande beläggningsprocess gör det möjligt för tantalkarbid (TaC)-beläggningar att uppnå hög renhet, hög temperaturstabilitet och hög kemisk tolerans, vilket förbättrar produktkvaliteten för SIC/GAN-kristaller och EPI-skikt (Grafitbelagd TaC-susceptor), och förlänger livslängden för nyckelreaktorkomponenter.Användningen av tantalkarbid TaC-beläggning är att lösa kantproblemet och förbättra kvaliteten på kristalltillväxt, och Semicera har genombrott löst tantalkarbidbeläggningstekniken (CVD), och nått den internationella avancerade nivån.
Med tillkomsten av 8-tums kiselkarbidskivor (SiC) har kraven på olika halvledarprocesser blivit allt strängare, särskilt för epitaxiprocesser där temperaturen kan överstiga 2000 grader Celsius.Traditionella susceptormaterial, såsom grafit belagd med kiselkarbid, tenderar att sublimeras vid dessa höga temperaturer, vilket stör epitaxiprocessen.Men CVD tantalkarbid (TaC) löser detta problem effektivt, tål temperaturer upp till 2300 grader Celsius och erbjuder en längre livslängd.Kontakta Semicera's Tantalkarbid TaC CVD-beläggning Wafer Susceptorför att utforska mer om våra avancerade lösningar.
Efter år av utveckling har Semicera erövrat tekniken förCVD TaCmed FoU-avdelningens gemensamma insatser.Defekter är lätta att uppstå i tillväxtprocessen av SiC-skivor, men efter användningTaC, skillnaden är betydande.Nedan är en jämförelse av wafers med och utan TaC, samt Simiceras delar för enkristalltillväxt.
med och utan TaC
Efter att ha använt TaC (höger)
Dessutom SemicerasTaC-belagda produkteruppvisar en längre livslängd och större motstånd mot höga temperaturer jämfört medSiC-beläggningar.Laboratoriemätningar har visat att vårTaC-beläggningarkan konsekvent prestera vid temperaturer upp till 2300 grader Celsius under längre perioder.Nedan följer några exempel på våra prover:
