CVD SiC Duschhuvud

Kort beskrivning:

Semiceras CVD SiC duschhuvud är ett högpresterande duschhuvud designat för processer för kemisk ångavsättning (CVD), speciellt för avsättning av tunnfilm av kiselkarbid (SiC). Tillverkad av högkvalitativt specialgrafitmaterial och med TAC Coating-teknik, säkerställer den utmärkt stabilitet och korrosionsbeständighet i högtemperaturmiljöer, vilket ger tillförlitligt stöd för halvledartillverkning.

Skicka e-post till oss

Produktdetaljer

Produkttaggar

Varför är kiselkarbidbeläggning?

SemicerasCVD SiC Duschhuvudär utformad för att optimeraCVD SiCbehandla. Huvudet använder avancerat Specialty Graphite-material, som har utmärkt värmeledningsförmåga och kemisk stabilitet, vilket säkerställer pålitlig prestanda under extrema arbetsförhållanden. Genom effektiv spraydesign kan CVD SiC-duschhuvudet uppnå enhetlig gasfördelning och säkerställa kvaliteten på SiC-filmavsättning på wafern.

AnvänderTAC beläggningTeknik, Semiceras CVD SiC duschhuvud förbättrar slitstyrkan och livslängden, vilket säkerställer att utrustningen förblir effektiv under långvarig drift. Dess optimerade design minskar inte bara underhållskostnaderna, utan förbättrar också produktionseffektiviteten, vilket gör att kunder kan få högre avkastning i halvledartillverkningsprocessen.

Dessutom SemicerasCVD SiC Duschhuvudär kompatibel med en mängd olika CVD-system och kan flexibelt appliceras på olika produktionsmiljöer. Oavsett om det är i FoU-stadiet eller i storskalig produktionmunstyckekan ge stabil prestanda och hjälpa kunder att sticka ut på den konkurrensutsatta marknaden.

Genom att välja Semiceras CVD SiC-duschhuvud får du utmärkt teknisk support och högkvalitativa produkter för att hjälpa dig att uppnå en mer effektiv produktionsprocess och högkvalitativ SiC-filmproduktion. Semicera är alltid engagerad i att främja utvecklingenofhalvledarindustrin och förse kunderna med de bästa lösningarna och tjänsterna.