Bulk CVD SiC Ring

Kort beskrivning:

Bulk CVD SiC-ringar använder kiselgas (såsom kiselhydrid) och kolkällgas (såsom metan) som råmaterial, som reagerar vid hög temperatur för att avsätta stora SiC-material på ett substrat eller form. Denna process gör att SiC kan avsättas enhetligt över ett stort område, vilket bildar en stark och konsekvent ringstruktur.

Skicka e-post till oss

Produktdetaljer

Produkttaggar

Varför är kiselkarbidetsring?

RTPCVD SiC-ringaranvänds ofta inom industriella och vetenskapliga områden i hög temperatur och korrosiva miljöer. Det spelar en viktig roll inom halvledartillverkning, optoelektronik, precisionsmaskiner och kemisk industri. Specifika tillämpningar inkluderar:

1. Halvledartillverkning:RTP CVD SiC-ringarkan användas för uppvärmning och kylning av halvledarutrustning, vilket ger stabil temperaturkontroll och säkerställer processens noggrannhet och konsistens.

2. Optoelektronik: På grund av dess utmärkta värmeledningsförmåga och höga temperaturbeständighet, RTPCVD SiC-ringarkan användas som stöd och värmeavledningsmaterial för lasrar, fiberoptisk kommunikationsutrustning och optiska komponenter.

3. Precisionsmaskineri: RTP CVD SiC-ringar kan användas för precisionsinstrument och utrustning i högtemperatur- och korrosiva miljöer, såsom högtemperaturugnar, vakuumanordningar och kemiska reaktorer.

4. Kemisk industri: På grund av dess korrosionsbeständighet och kemiska stabilitet kan RTP CVD SiC-ringar användas i behållare, rör och reaktorer i kemiska reaktioner och katalytiska processer.

Epi System

RTP-system

CVD-system

Produktprestanda:

1. Möt processen under 28nm

2. Superkorrosionsbeständighet

3. Superren prestanda

4. Superhårdhet

5. Hög densitet

6. Hög temperaturbeständighet

7. Slitstyrka

Produktapplikation:

Kiselkarbidmaterial har egenskaperna hög hårdhet, slitstyrka, korrosionsbeständighet och hög temperaturstabilitet. Produkter med utmärkt omfattande prestanda används ofta i torretsning och TF/diffusionsprocesser.