Semiceras 4”6” High Purity Halvisolerande SiC-göt är designade för att möta de krävande standarderna för halvledarindustrin. Dessa tackor tillverkas med fokus på renhet och konsistens, vilket gör dem till ett idealiskt val för högeffekts- och högfrekventa applikationer där prestanda är av största vikt.
De unika egenskaperna hos dessa SiC-göt, inklusive hög värmeledningsförmåga och utmärkt elektrisk resistivitet, gör dem särskilt lämpade för användning i kraftelektronik och mikrovågsapparater. Deras halvisolerande karaktär möjliggör effektiv värmeavledning och minimal elektrisk störning, vilket leder till mer effektiva och tillförlitliga komponenter.
Semicera använder toppmoderna tillverkningsprocesser för att producera göt med exceptionell kristallkvalitet och enhetlighet. Denna precision säkerställer att varje göt kan användas tillförlitligt i känsliga applikationer, såsom högfrekvensförstärkare, laserdioder och andra optoelektroniska enheter.
Tillgängliga i både 4-tums och 6-tums storlekar, Semiceras SiC-göt ger den flexibilitet som behövs för olika produktionsskalor och tekniska krav. Oavsett om det är för forskning och utveckling eller massproduktion, ger dessa göt den prestanda och hållbarhet som moderna elektroniska system kräver.
Genom att välja Semiceras High Purity Semi-Insulating SiC Ingots investerar du i en produkt som kombinerar avancerad materialvetenskap med oöverträffad tillverkningsexpertis. Semicera är dedikerat till att stödja innovation och tillväxt inom halvledarindustrin, och erbjuder material som möjliggör utveckling av banbrytande elektroniska enheter.
Föremål | Produktion | Forskning | Dummy |
Kristallparametrar | |||
Polytyp | 4H | ||
Ytorienteringsfel | <11-20 >4±0,15° | ||
Elektriska parametrar | |||
Dopant | n-typ kväve | ||
Resistivitet | 0,015-0,025 ohm·cm | ||
Mekaniska parametrar | |||
Diameter | 150,0±0,2 mm | ||
Tjocklek | 350±25 μm | ||
Primär platt orientering | [1-100]±5° | ||
Primär platt längd | 47,5±1,5 mm | ||
Sekundär lägenhet | Ingen | ||
TTV | ≤5 μm | ≤10 μm | ≤15 μm |
LTV | ≤3 μm (5mm*5mm) | ≤5 μm (5mm*5mm) | ≤10 μm (5mm*5mm) |
Rosett | -15μm ~ 15μm | -35μm ~ 35μm | -45μm ~ 45μm |
Varp | ≤35 μm | ≤45 μm | ≤55 μm |
Främre (Si-face) grovhet (AFM) | Ra≤0,2nm (5μm*5μm) | ||
Strukturera | |||
Mikropipdensitet | <1 e/cm2 | <10 e/cm2 | <15 e/cm2 |
Metallföroreningar | ≤5E10atomer/cm2 | NA | |
BPD | ≤1500 ea/cm2 | ≤3000 ea/cm2 | NA |
TSD | ≤500 ea/cm2 | ≤1000 ea/cm2 | NA |
Främre kvalitet | |||
Främre | Si | ||
Ytfinish | Si-face CMP | ||
Partiklar | ≤60ea/wafer (storlek≥0,3μm) | NA | |
Repor | ≤5ea/mm. Kumulativ längd ≤Diameter | Kumulativ längd≤2*Diameter | NA |
Apelsinskal/gropar/fläckar/ränder/sprickor/kontamination | Ingen | NA | |
Kantspån/indrag/brott/sexplåtar | Ingen | ||
Polytypområden | Ingen | Kumulativ yta≤20 % | Kumulativ yta≤30 % |
Lasermärkning framtill | Ingen | ||
Ryggkvalitet | |||
Bakre finish | C-face CMP | ||
Repor | ≤5ea/mm, Kumulativ längd≤2*Diameter | NA | |
Ryggdefekter (kantspån/indrag) | Ingen | ||
Ryggsträvhet | Ra≤0,2nm (5μm*5μm) | ||
Rygglasermärkning | 1 mm (från överkant) | ||
Kant | |||
Kant | Avfasning | ||
Förpackning | |||
Förpackning | Epi-ready med vakuumförpackning Multi-wafer kassettförpackning | ||
*Anmärkningar: "NA" betyder ingen begäran. Objekt som inte nämns kan referera till SEMI-STD. |