Beskrivning
Kiselkarbidsliptrumma använder isostatisk pressformningsprocess, densitet 3,09 g/cm3, maximal φ950 mm, Vickers hårdhet 2550HV.
Applicering av Silicon Carbide keramisk sliptrumma i värmeelement
Keramisk slipcylinder av kiselkarbid har blivit råmaterialet för katodmaterial för litiumbatterier på grund av dess viktiga ledande egenskap.SiC-värmeelement är en viktig produkt av SiC-material och har en bred marknadsutsikt.
Fördel för slipning av kiselkarbid
(1) Hög mekanisk hållfasthet, så gott som
Hög mekanisk hållfasthet kan effektivt förhindra materialdeformation, vilket är mycket viktigt.Kiselkarbid har högre mekanisk hållfasthet än korund.Till exempel är tryckhållfastheten för kiselkarbid 224 MPa, medan den för korund endast är 75,7 MPa.Böjhållfastheten för kiselkarbid är 15,5 MPa och den för korund är 8,72 MPa.
(2) Hög hårdhet och slitstyrka
Kiselkarbid hårdhet är ganska hög, enligt Mohs hack hårdhet mellan 9,2 ~ 9,6, näst efter diamant och borkarbid, högre än korund, så i den vanliga slipning och skakning bland de bästa.Jämfört med metallstålmaterial är det inte bara hög hårdhet, utan även i det icke-smörjande tillståndet är friktionskoefficienten liten, relativt liten friktion, ytjämnheten är liten, slitstyrkan är bra.Förutom det yttre materialet har en stark slagtålighet, förbättra ytans bärförmåga.
(3) Låg densitet
Densiteten för kiselkarbid är lägre än för metall, så utrustningen är lättare.
Företag
Wei Tai Energy Technology Co., Ltd. (Miami Advanced Material Technology Co., Ltd) är en ledande leverantör av avancerad halvledarkeramik och den enda tillverkaren i Kina som samtidigt kan tillhandahålla kiselkarbidkeramik med hög renhet (särskilt den omkristalliserade SiC) och CVD SiC-beläggning.Dessutom är vårt företag också engagerat i keramiska områden som aluminiumoxid, aluminiumnitrid, zirkoniumoxid och kiselnitrid, etc.
Våra huvudprodukter inkluderar: etsskiva av kiselkarbid, båtdrag av kiselkarbid, waferbåt av kiselkarbid (fotovoltaisk och halvledare), ugnsrör av kiselkarbid, fribärande skovel av kiselkarbid, chuckar av kiselkarbid, kiselkarbidstrålen SiC samt Ta CVD-beläggningen, samt Ta CVD-beläggningen. beläggning.Produkterna som huvudsakligen används inom halvledar- och fotovoltaikindustrin, såsom utrustning för kristalltillväxt, epitaxi, etsning, förpackning, beläggning och diffusionsugnar, etc.
Vårt företag har den kompletta produktionsutrustningen såsom gjutning, sintring, bearbetning, beläggningsutrustning, etc., som kan slutföra alla nödvändiga länkar för produktproduktion och har högre kontrollerbarhet av produktkvalitet;Den optimala produktionsplanen kan väljas enligt produktens behov, vilket resulterar i lägre kostnad och ger kunderna mer konkurrenskraftiga produkter;Vi kan flexibelt och effektivt schemalägga produktion baserat på orderleveranskrav och i samband med online orderhanteringssystem, vilket ger kunderna snabbare och mer garanterad leveranstid.
